三星联手美企提升3纳米良率以赶超台积电

三星电子已与美国公司Silicon Frontline Technology扩大合作，提高半导体晶片在生产过程中的良率，希望超车劲敌台积电。

据悉，三星电子先进制程良率低迷，自5纳米制程一直存在良率问题，随着4纳米和3纳米，情况变得更糟，据传三星3纳米解决方案制程自量产以来，良率不超过20%，量产进度陷入瓶颈。